Podstavec z křemenného izolátoru 300 mm

Podstavec křemenného izolátoru AMAT 300 mm (číslo dílu 0200-14197) je přesně vyrobený, vysoce čistý křemenný komponent určený pro použití v 300mm polovodičových procesních zařízeních, včetně systémů PVD, CVD a plazmového leptání.

Jakožto kritický strukturální a funkční prvek v komoře integruje tato komponenta mechanickou oporu, elektrickou izolaci a izolaci procesu do jednoho vysoce výkonného řešení. Je speciálně vyvinuta tak, aby splňovala přísné požadavky pokročilé výroby destiček, kde je zásadní stabilita procesu, kontrola kontaminace a spolehlivost zařízení.

Ve společnosti Semixlab vyrábíme komponenty pro křemenné podstavce s použitím ultračistého taveného křemene a pokročilých technologií obrábění, abychom zajistili vynikající rozměrovou přesnost, dielektrické vlastnosti a dlouhodobou životnost v náročných plazmových prostředích.

Proč si vybrat Semicera Semiconductor?

Společnost Semixlab kombinuje odborné znalosti materiálů, znalosti polovodičových procesů a přesnou výrobu, aby dodávala spolehlivé křemenné komponenty pro pokročilé továrny.

Naše přednosti:

● Kontrola materiálu z křemene s velmi vysokou čistotou

● Obrábění s přesnými tolerancemi pro kritické rozměry

● Osvědčený výkon v aplikacích s vysokými nároky na plazma

● Řešení kompatibilní s OEM pro platformy AMAT

● Stabilní globální dodávky a technická podpora

Žádost o proces a postavení v komoře

Podstavec z křemenného izolátoru se používá především v procesech výroby polovodičů na začátku výroby, zejména v prostředích zahrnujících RF plazma, podmínky vysokého napětí a vakuové zpracování.

Pozice komory

Tato součástka je instalována ve spodní části procesní komory, obvykle pod nebo kolem sestavy podpěry destičky (např. elektrostatický upínač nebo ohřívač).

Působí v těsné blízkosti:

● Oblast manipulace s destičkami

● Elektrostatický upínač (ESC) nebo podstavcová konstrukce

● Plazmové zóny poháněné RF

Role v architektuře zařízení

V rámci komorového systému slouží podstavec z křemenného izolátoru jako kritické rozhraní mezi elektricky aktivními součástkami a uzemněnými mechanickými strukturami.

Jeho poloha mu umožňuje:

● Elektricky izolujte prvky s vysokým napětím nebo napájené rádiovými frekvencemi

● Podpora mechanické integrity destičky

● Udržujte stabilní a kontrolované procesní prostředí

Základní funkce a výhody výkonu

1) Elektrická izolace v prostředí RF plazmatu

Jednou z nejdůležitějších funkcí této součástky je zajištění izolace s vysokou dielektrickou pevností v systémech pracujících za podmínek vysokofrekvenčního předpětí a plazmatu.

● Zabraňuje úniku elektrického proudu a nežádoucím cestám proudu

● Snižuje riziko vzniku oblouku a nestability plazmatu

● Zajišťuje konzistentní rozložení RF pole

Výsledek: Zlepšená opakovatelnost procesu a bezpečnost zařízení

2) Mechanická opora a strukturální stabilita

Součástí sestavy podstavce je tato komponenta:

● Stabilní podpora pro systémy manipulace s wafery

● Vysoká rozměrová přesnost pro zachování zarovnání

● Odolnost proti deformaci při teplotních cyklech

Výsledek: Zvýšená přesnost polohování destičky a rovnoměrnost filmu

3) Kompatibilita plazmy a kontrola kontaminace

Tento komponent, vyrobený z ultračistého křemene, nabízí:

● Nízké hladiny kovových nečistot

● Vynikající odolnost vůči plazmové erozi

● Minimální tvorba částic

Výsledek: Snížené riziko kontaminace a lepší výtěžnost destiček

4) Tepelně izolační vlastnosti

Křemen má ze své podstaty nízkou tepelnou vodivost, což umožňuje podstavci:

● Izolujte přenos tepla mezi ohřívačem/regulátorem tepla a konstrukcemi komory

● Udržování stabilních profilů destiček

● Minimalizujte tepelné namáhání v systému

Výsledek: Lepší řízení procesu a delší životnost součástí